Главная Продукция Серия ARPES Фотоэлектронный спектрометр с режимом микроскопии в пространстве импульсов

Фотоэлектронный спектрометр с режимом микроскопии в пространстве импульсов

Модель: ARPES-A7
Связаться с нами

Описание

Прибор для быстрого исследования электронной структуры в реальном и обратном пространстве

Прибор объединяет фотоэлектронную эмиссионную микроскопию (PEEM) и исследование электронной структуры в пространстве импульсов (MM-ARPES). В режиме PEEM получают изображение выбранного участка поверхности, а в режиме MM-ARPES — карты распределения фотоэлектронов по компонентам импульса при выбранной энергии. Такие измерения позволяют исследовать зонную структуру и поверхность Ферми.

* Несколько режимов: PEEM, MM-ARPES, μ-ARPES и другие

* Подходит для исследования малых образцов материалов и устройств, в том числе in situ

Технические характеристики

Остаточное магнитное поле в точке расположения образца
Типичное значение ≤10 мГс
Предельное остаточное давление
≤5×10⁻¹¹ мбар (при оснащении достаточным количеством вакуумных насосов и после длительного прогрева)
Диапазон энергий
1–1500 эВ
Энергия пропускания
1–200 эВ; доступно несколько значений
Энергетическое разрешение
≤25 мэВ в режиме MM-ARPES; ≤10 мэВ в режиме Spectroscopy
Пространственное разрешение
≤50 нм в режиме PEEM
Угловое разрешение
≤0,1°
Режимы работы электронно-оптической системы
PEEM, MM-ARPES, Spectroscopy-ARPES (переключение между указанными режимами in situ)
Угловой диапазон
±90°
Размер поля зрения
2–1000 мкм
Минимальная полевая апертура
2 мкм
Режимы регистрации
Фиксированный режим; режим сканирования
Криогенный манипулятор образца
6-осевой криогенный манипулятор с открытым циклом охлаждения
Минимальная температура
Типичное значение 15 К
Способ охлаждения
Охлаждение с открытым циклом
Линейное перемещение
Три степени свободы — X, Y, Z; ход ±5 мм
Вращение
Три вращательные степени свободы — P, T, A; диапазоны поворота ±2°, ±2°, ±5°
Управление манипулятором
Все перемещения моторизованы; управление на базе программируемого логического контроллера (ПЛК) с интерфейсами ПЛК и компьютера
Источник ультрафиолетового излучения
VUV430-AF-MONO и другие
Полный поток фотонов на образце
6×10¹¹ фотонов/с
Рабочие газы
He, Kr, Xe и другие
Источник возбуждения
Твердотельный радиочастотный генератор
Монохроматор
Тороидальная отражательная дифракционная решётка или двухкристальный монохроматор
Система прогрева
Прогрев с циркуляцией горячего воздуха; максимальная температура 200 °C
Система управления
Отображение и контроль параметров вакуума в реальном времени; защита системы

Другие приборы